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Essential Macleod新版本12.6更新內(nèi)容

Essential Macleod 12.6新版本已經(jīng)正式發(fā)布，更新內(nèi)容如下：

Core

1. 現(xiàn)在可以隨時訪問“厚層設(shè)計”的偏振選項，在此之前，當使用入射角列表時，偏振選項無法更改。

2. 散射工具（scattering tool）現(xiàn)在可以計算BRDF/BTDF以及角分辨散射。

3. 在散射工具中添加了散射積分計算。總散射積分是角分辨散射在反射半球和透射半球上的積分。為方便起見，反射半球和透射半球的散射積分是分開提供的。

4. 現(xiàn)在，Essential Macleod可以讀取日立光譜儀生成的udss文件。Essential Macleod將帶有udss擴展名的文件假定包含日立格式的數(shù)據(jù)，并自動解碼。

5. 反演工程（Reverse Engineer）現(xiàn)在支持在不同基板上進行測量。每個測量頁面都可以指定用于測量的基板。如果基板為空白，就會調(diào)用“設(shè)計”（Design）頁面的基板。

6. 現(xiàn)在的設(shè)計可以導出使用于Synopsys的LightTools軟件。使用File>Export>LightTools來導出數(shù)據(jù)

 

Runsheet

1. Runsheet現(xiàn)在可以導出一個設(shè)計文件，該文件包含在Runsheet中使用的監(jiān)測芯片的預期厚度。選擇要導出的包含芯片的層（或該芯片上的一個層），然后使用File>Export>Chip Design來創(chuàng)建設(shè)計。