LightTrans VirtualLabTM的持續(xù)完善——LightTrans VirtualLabTM 提供更多擴(kuò)展功能，更易上手，性能更加卓越
VirtualLabTM正在持續(xù)擴(kuò)展并完善。每年數(shù)次的新版本發(fā)布保證了VirtualLabTM的用戶能立刻從這個(gè)平臺的發(fā)展中受益。對于提升用戶的便捷性和舒適度，改善數(shù)值性能，解決光學(xué)建模中的問題以及在適應(yīng)現(xiàn)代計(jì)算機(jī)體系結(jié)構(gòu)方面，使用LightTrans在VIrtualLabTM工具箱提供的更新服務(wù)都是非常有用的。
5.10版本的更新功能
參數(shù)運(yùn)行模擬系列實(shí)驗(yàn)
改進(jìn)的參數(shù)運(yùn)行定義了針對公差和優(yōu)化的實(shí)驗(yàn)系列，這對于用戶來說會更加舒適方便，對結(jié)果緩存方式的改進(jìn)使得運(yùn)算速度大大提升。
部分相干光模擬
VirtualLab提供了基于模式模型的合理方法進(jìn)行時(shí)域和空域的部分相干光建模，通過高效方法以及并行處理急劇加速了模式的處理過程。
元件定位更加靈活
光學(xué)元件的位置和方向定義更加自由，包括傾斜、偏離，以及公差分析和優(yōu)化中的使用。
高效地追跡引擎
包括場追跡和光線追跡的追跡引擎又有了進(jìn)一步的擴(kuò)展。作為系統(tǒng)一部分的光柵的嚴(yán)格模擬是其中一個(gè)例子
光束整形以及圖形生成
添加了單色光以及白光LED整形的新設(shè)計(jì)方法。添加了新的輸出格式.STL和.TIFF。
數(shù)據(jù)查看更方便
VirtualLab對于數(shù)據(jù)和數(shù)據(jù)矩陣的顯示、操作以及定值提供了新的選項(xiàng)，包括動(dòng)畫中的數(shù)據(jù)。
用戶自定義建模
VirtualLab.Programming用戶可在可編程界面上添加自己的建模技術(shù)，這使得場追跡更加靈活。
飛秒和阿秒的時(shí)域空域建模
飛秒阿秒的展寬壓縮、聚焦整形的建模已經(jīng)添加到5.8-5.10版本中。阿秒脈沖建模中會使用X光的色散關(guān)系。
黑匣子元件保護(hù)知識產(chǎn)權(quán)
新添加的黑匣子元件可以使光學(xué)供應(yīng)商提供給客戶一個(gè)VirtualLab建模的加密元件
建模情況易跟蹤
場追跡對交叉學(xué)科的建模任務(wù)提供了高度靈活性，對于每一步的計(jì)算情況VirtualLab都有詳細(xì)的日志記錄。
關(guān)于光學(xué)建模設(shè)計(jì)中的需求和技術(shù)問題，我們誠邀您的探討。
VirtualLabTM5．10把主要精力投入在了照明工具箱，改善了光束整形理念，使照明工具箱功能更強(qiáng)大。反射和折射整形元件可以在照明工具箱中使用，并且在設(shè)計(jì)分析復(fù)雜的光學(xué)系統(tǒng)過程中允許添加其他光學(xué)元件。
另外使用場追跡的概念進(jìn)行光學(xué)建模性能得到了改善，包括坐標(biāo)系的巧妙處理以及傳播過程中分析參數(shù)的使用更加統(tǒng)一。
數(shù)據(jù)矩陣以及面對對象的數(shù)據(jù)矩陣的可視化有了極大改善，并開發(fā)了一維和二維數(shù)據(jù)的內(nèi)容選擇工具。
詳情如下：
1、 照明工具箱
支持使用反射和折射整形元件，通過陣列反射鏡及陣列棱鏡實(shí)現(xiàn)。
對于反射和折射整形元件可以將其結(jié)構(gòu)輸出為txt文件及CAD格式，輸出至CAD中由STL實(shí)現(xiàn)，包含結(jié)構(gòu)規(guī)劃及邊界擠壓。
可以建立復(fù)雜光學(xué)系統(tǒng)，輸出結(jié)果由camera detector觀察。
基于照明工具箱設(shè)計(jì)算法的元胞陣列可以使用隨機(jī)生成來復(fù)現(xiàn)結(jié)果。
基于光束整形元件的元胞陣列的設(shè)計(jì)過程中，需要考慮到生產(chǎn)加工約束條件。
LLGA結(jié)果發(fā)生器可以自動(dòng)計(jì)算一階平均效率。
2、 參數(shù)運(yùn)行
參數(shù)運(yùn)行停止后再繼續(xù)運(yùn)行新的循環(huán)計(jì)算時(shí)，中間結(jié)果不會丟失，就是說參數(shù)運(yùn)行可停止可繼續(xù)，不用重頭再來。
參數(shù)運(yùn)行處理計(jì)算過的結(jié)果會更高效，定義沒有合適結(jié)果的循環(huán)也會運(yùn)行。
所有循環(huán)完成后可以自動(dòng)保存結(jié)果，并且能強(qiáng)制關(guān)閉會話窗口。
參數(shù)運(yùn)行的參數(shù)可視圖表可以選擇是否顯示物理單位。
添加了所有光源的更多參數(shù)。
3、 位置/公差
公差改名為孤立地位（isolated positioning），會話框中的位置也做了調(diào)整。
恒等算子和坐標(biāo)中斷面可在4π空間中自由定義。
4、 光路流程圖
連接兩個(gè)元件的標(biāo)準(zhǔn)流程圖允許選擇瑞利-索末菲卷積和瑞利-索末菲求和算子。
擴(kuò)展的日志會記錄下光路流程圖的內(nèi)在傳播邏輯，包括傳播算子的完成步驟的擴(kuò)展記錄。
新日志標(biāo)準(zhǔn)加入到光路日志當(dāng)中，因此可以查看并選擇雙界面元件（DIC）內(nèi)的自動(dòng)傳播算子的選項(xiàng)。
新的光路流程圖工具可以將一個(gè)元件加入到已經(jīng)創(chuàng)建的光學(xué)界面序列（OIS）。
5、 傳播
在之前的VirtualLabTM版本中，諧波場集的所有子場都必須在一個(gè)坐標(biāo)系中定義，在5.10版中這個(gè)限制已經(jīng)去除。這使得光路流程圖性能更優(yōu)，模擬也能更一致。
傳播算子做了調(diào)整，使得到下一個(gè)傳輸面上的場計(jì)算更加優(yōu)化，這保證了諧波場集的每個(gè)子場都會被單獨(dú)計(jì)算。
大多數(shù)理想元件可通過解析地定義入射光坐標(biāo)系來處理橫向偏移。線性相位算子也能解析地處理場的方向。
真實(shí)元件可以解析地處理橫向平移，傳播技術(shù)的選擇明確了是否能解析地解決平移。
采用光線追跡時(shí)，光線數(shù)量可以自由定義。
對一些理想元件可以進(jìn)行光線追跡，會將理想化效果應(yīng)用于入射光束上，例如線性相位、球面相位、分束器等等。
用戶可以在光線束追跡模擬時(shí)選擇探測器。
光路長度由光線束追跡決定，在脈沖評估探測器和光路長度分析儀中會使用光路長度信息。
6、 光源
所有光源在優(yōu)化坐標(biāo)系下產(chǎn)生輸出信號，包括橫向平移值及部分相干光源的平移模位置。對于平面波光源的方向也會做解析處理。
引入了對產(chǎn)生非單一諧波場的光源新的處理選擇項(xiàng)，用戶可以明確只選擇用光源的其中一個(gè)模式，用戶還可以通過選擇橫移序號及光譜序號來指定產(chǎn)生哪個(gè)模式。
7、 元件
新的黑匣子元件可以讓用戶對指定的子系統(tǒng)進(jìn)行加密。黑匣子元件可以用于在不泄露安全I(xiàn)P的情況下發(fā)送用戶的光學(xué)系統(tǒng)。
子系統(tǒng)元件可以用于打包一套定義好的LPD相對應(yīng)的光路編輯界面（LPE），這個(gè)技術(shù)對于VL5.10解決棱鏡問題來說非常有必要。
一個(gè)新的理想元件可通過用一個(gè)子系統(tǒng)的ABCD矩陣來定義該子系統(tǒng)。
用戶可以定義一個(gè)固定到場尺寸和采樣（field size and sampling）這樣一個(gè)光路元件的輸入傳輸面。
OIS預(yù)覽會顯示指定介質(zhì)的折射率。
在OIS/Stack的標(biāo)注行界面會在圖示中呈紅色。
可定義隨機(jī)元胞/散斑型擴(kuò)散器的種子。 |
