VirtualLabTM新版本5.5使用場追跡在光學(xué)建模方面提供了前所未有的便利性。新版本允許添加自定義的建模技術(shù)，這提供了最靈活和最有效的場追跡體驗，用戶定義的解是基于編程光源，元件和探測器，這些能夠在一起使用的建模解已經(jīng)在VirtualLabTM中發(fā)布。
同時編程光源，元件和探測器也打開了一扇令人興奮的商業(yè)概念的大門：LightTrans鼓勵工作在R&D光學(xué)建模領(lǐng)域的專家和同事，將他們感興趣的并且能夠完成場追跡的物理光學(xué)技術(shù)作為VirtualLab編程元件補充進來。LightTrans將提供和販?zhǔn)圻@些場追跡的解，作為VirtualLab的拓展技術(shù)，所得利潤將大部分給這些解的開發(fā)者。
除了新的特性以外，版本5.5允許將用戶使用C#和MATLAB編程技術(shù)定義模型整合起來。這最終使得任何VirtualLab的用戶都能從場追跡技術(shù)中受益。
發(fā)布日期：2012年12月20日
更新服務(wù)：2012年第四季度要求
安裝：Virtuallab5.0或5.0.x,5.1.x,5.2.x,5.3.x,5.4.x版本上安裝即可
通過編程自定義建模
可編程元件：場追跡理論允許在仿真時實現(xiàn)不同建模技術(shù)的結(jié)合。使用編程元件，可以把用戶通過MATLAB®或C#自定義的建模技術(shù)和VirtualLab提供的解決方案結(jié)合在一起。在編程元件里，用戶可以直接訪問輸入場和要計算的輸出場。相關(guān)的幾個例子已經(jīng)添加到元件庫里。
可編程探測器：VirtualLab提供了在任意探測面的全場量信息�？删幊烫綔y器允許對用戶任何自定義的方程進行評估。
MATLAB®的集成：LightTrans了解到VirtualLab的許多用戶都在開發(fā)自己的建模技術(shù)，而這些技術(shù)大部分都是用MATLAB®編寫的�，F(xiàn)在可以通過MATLAB R途徑直接來訪問可編程對象的程序。
現(xiàn)在可以在MODULE VIEW中直接編輯引用的DLL了。
激光諧振腔
VirtualLab5.5現(xiàn)在可以仿真非穩(wěn)腔了。
光源和探測器
具有太陽光譜的光源已經(jīng)添加到光源庫。
把其他元件（Other Components）從探測器選單里給刪除了。它已經(jīng)過時了，因為我們得到了新的、單獨的探測器來對坡印廷矢量、電場和磁場進行評估。
視圖和數(shù)據(jù)數(shù)組
數(shù)據(jù)數(shù)組增加了新的操作，包括給定復(fù)制次數(shù)來進行周期性的復(fù)制，不基于取樣和坐標(biāo)軸范圍的數(shù)據(jù)合并。
所有的2D數(shù)據(jù)數(shù)組都可以進行3D顯示了。
時域轉(zhuǎn)換：帶一個子集的數(shù)據(jù)數(shù)組能夠進行時間取樣了。
數(shù)值型數(shù)組可以復(fù)制到寫字板了。
只有一個子集的2D數(shù)值型數(shù)組可以分解成一維數(shù)值型數(shù)組。
數(shù)據(jù)數(shù)組的輸入向?qū)КF(xiàn)在允許用戶自定義數(shù)組的規(guī)格或在零點附近的中心坐標(biāo)范圍。
數(shù)字?jǐn)?shù)據(jù)數(shù)組提供了一個新的標(biāo)簽頁，可以通過插值方法顯示任意坐標(biāo)處的數(shù)值。
在數(shù)據(jù)數(shù)組表格的單元表格中可以定義最大數(shù)的上限了。
現(xiàn)在在預(yù)覽堆棧（Stacks）和光學(xué)序列界面（OIS）時，可以對Z-X面（默認(rèn)）和Z-Y面進行切換了。
參數(shù)運行
參數(shù)運行現(xiàn)在有新的、特殊的對數(shù)據(jù)數(shù)組的組合輸出，且產(chǎn)生的組合輸出也得到了改進。
現(xiàn)在可以對參數(shù)運行里的參數(shù)選擇的項進行分組了。
輸入
現(xiàn)在沒有指定庫文件的Zemax文件可以正確的導(dǎo)入到VirtualLab里去了。
設(shè)計和優(yōu)化
多模光源現(xiàn)在可以應(yīng)用到參數(shù)優(yōu)化里去了。例如，這就使得VirtualLab可以解決多色設(shè)計的問題了。
材料和介質(zhì)
在材料庫里添加了X射線材料。
現(xiàn)在在編輯材料時，可通過編程輸入材料的色散公式和吸收系數(shù)。
可編程的介質(zhì)允許使用一系列的介質(zhì)，這些都可以再編輯對話框中設(shè)定。
材料庫中新增加兩個模板：一個是通過阿貝常數(shù)Vd來定義材料，另一個通過取樣n-k-數(shù)據(jù)來定義材料。
雙端面型元件和結(jié)構(gòu)設(shè)計
結(jié)構(gòu)設(shè)計后的取樣表面的取樣距離用來設(shè)定通過衍射光學(xué)表面?zhèn)鬏數(shù)娜訁?shù)。
雙端面型元件的傳輸參數(shù)在參數(shù)運行里的一致性使用：增加了對于界面?zhèn)鞑サ娜泳嚯x和取樣點的其他參數(shù)的設(shè)置。
試用版
基于支持的目的，試用版現(xiàn)在可以保存設(shè)計好的光學(xué)路徑圖了。存儲好的文件不能再次在試用版中打開。試用的客戶必須把文件發(fā)到support@infotek.com.cn。 我們能從系統(tǒng)中提取信息確保對試用客戶的一個合格和有效的技術(shù)支持。
操作處理
理想材料：理想的高吸收的材料被存儲到材料庫里，并命名為Ideal High Reflectance Material，讓用戶更快找到。
現(xiàn)在物理傅里葉變化時可以應(yīng)用的（除了數(shù)值傅里葉變換）。它使用的是物理縮放來保持場的功率。
取樣表面現(xiàn)在可以通過數(shù)據(jù)數(shù)組而不是圖表來定義了。
現(xiàn)在可以通過光學(xué)序列表面工具（OIS Tools）來同步光學(xué)序列表面的所有光學(xué)鍍膜。
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