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基于橢圓偏振法的光學(xué)薄膜測(cè)量

橢圓偏振法是一種光學(xué)測(cè)量方法，它利用了光在被表面反射（或透過(guò)）時(shí)發(fā)生的偏振變化，例如塊狀材料或薄膜。隨著時(shí)間的推移，它在半導(dǎo)體和光學(xué)涂層應(yīng)用中得到了普及，因?yàn)榕c傳統(tǒng)的反射測(cè)量相比，它的靈敏度更高。 因此，橢圓偏振法現(xiàn)在被用來(lái)準(zhǔn)確地表征不同樣品的成分、粗糙度、厚度、結(jié)晶特性、導(dǎo)電性和其他材料特性。

在最新發(fā)布的快速物理光學(xué)軟件VirtualLab Fusion 2023.1中，橢圓偏振分析器已被添加到該軟件不斷增加的功能陣列中。它提供了一個(gè)簡(jiǎn)單明了的方法，通過(guò)在模擬產(chǎn)生的電磁場(chǎng)結(jié)果上應(yīng)用橢圓偏振的概念來(lái)研究涂層、多層結(jié)構(gòu)和光柵的特性。此外，它還提供了在分析儀內(nèi)自動(dòng)掃描波長(zhǎng)和入射角的可能性，從而方便地生成典型的橢圓偏振曲線，這些曲線在擬合到一個(gè)模型后，可以繼續(xù)揭示我們?cè)噲D從這些實(shí)驗(yàn)中獲得的材料特性。你可以在下面找到解釋如何使用這個(gè)新的分析儀的文件鏈接，以及一個(gè)應(yīng)用于二氧化硅涂層測(cè)量的例子。

 

橢圓偏振分析器
 

 

本用例展示了橢圓偏振法的基本原理，并說(shuō)明了VirtualLab Fusion中內(nèi)置的橢圓儀分析器的使用。

 

SiO2涂層的可變角度光譜橢圓偏振（VASE）分析

 

 

本用例說(shuō)明了在VirtualLab Fusion中實(shí)現(xiàn)的橢圓偏振分析器在文獻(xiàn)中的使用：Woollam et al., Proc. SPIE 10294, 1029402 (1999).