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泰伯(TALBOT)光刻機

作為最著名的衍射效應之一，泰伯(Talbot)效應可以用于光刻技術中以制造周期性納米結構。繼I.-H. Lee等人，我們在六邊形網格上構造了一個圓錐形光柵掩膜版，并以深度方式模擬了Talbot圖像的生成。 特別是，由于光刻過程中使用的紫外光是非偏振的，因此我們在示例中演示了如何為VirtualLab Fusion中的光柵模擬建模非偏振光。
 

圓錐形相位掩模的Talbot圖像
 

 

在VirtualLab Fusion中對帶有圓錐體的相位掩模版進行了建模。檢測到不同的Talbot圖像，以使柱形圖案位于主像平面中，而孔圖案出現在次像平面中。 
 

用于光柵仿真的非偏振光–實例討論
 

 

示范了在VirtualLab Fusion的光柵仿真建模中，如何以兩個正交偏振態(tài)的平均值建模非偏振光的影響。

 

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