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高NA (數(shù)值孔徑)物鏡的分析

高NA(數(shù)值孔徑)物鏡常用于光學(xué)顯微及光刻，并已廣泛在其他應(yīng)用中得以使用。眾所周知，在高數(shù)值孔徑物鏡的使用中，電磁場(chǎng)矢量特性的影響是不可忽略的。一個(gè)眾所周知的例子就是由高NA(數(shù)值孔徑)物鏡聚焦線性偏振圓光束時(shí)，焦斑的不對(duì)稱性:焦斑不再是圓的，而是拉長(zhǎng)的。我們通過(guò)具體的物鏡實(shí)例來(lái)說(shuō)明了這些效應(yīng)，并演示了如何在VirtualLab Fusion中使用不同的探測(cè)器分析焦斑。
 

高數(shù)值孔徑物鏡的聚焦分析

 

高數(shù)值孔徑(NA)物鏡廣泛用于光學(xué)光刻、顯微系統(tǒng)等。在對(duì)焦斑的模擬中考慮光的矢量性質(zhì)是非常重要的。
 

高數(shù)值孔徑(NA)物鏡系統(tǒng)的先進(jìn)點(diǎn)擴(kuò)散函數(shù)計(jì)算

 

當(dāng)線性偏振高斯光束經(jīng)高數(shù)值孔徑(NA)非球面透鏡聚焦時(shí)，由于矢量效應(yīng)，焦平面上的PSF呈現(xiàn)非對(duì)稱性。

 

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