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錐形相位掩模的Talbot圖像

摘要
 

在傳統(tǒng)的 Talbot 光刻中，在光敏層中僅使用一個圖像。 但是，可以使用特殊的相位掩模以深度方式生成相位掩模的兩個圖像。 在本案例中，按照 I.-H. Lee 等人在 VirtualLab Fusion 中使用傅里葉模態(tài)方法 (FMM，也稱為 RCWA) 對具有一層錐體的相位掩模進(jìn)行建模�？梢詸z測到不同的 Talbot 圖像，在主像平面中會再現(xiàn)柱狀圖案，而在次要像平面中再現(xiàn)孔圖案。
 

 

建模任務(wù)

 

 

structure and material parameters from I.-H. Lee, et al., Opt. Express 23, 25866-25873 (2015)

 

系統(tǒng)建模塊

 

 

特定位置的Talbot圖案

 

特定位置的Talbot圖案

 

不同位置的Talbot圖案

 

不同位置的Talbot圖案

 

沿 Z 軸的強度

 

VirtualLab Fusion技術(shù)

  

文件信息

 

更多閱覽
- Ultra-Sparse Dielectric Nano-Wire Grid Polarizers

- Grating Order Analyzer

- Modeling of the Talbot Effect

- Configuration of Grating Structures by Using Interfaces

- Configuration of Grating Structures by using Special Media