摘要
用于增強或混合現(xiàn)實應(yīng)用的任何類型的光導系統(tǒng)，其設(shè)計過程中的一個主要部分是用于輸入耦合器、輸出耦合器和出瞳擴展器光柵區(qū)域的配置。為此，對光傳播以及發(fā)生的光柵相互作用進行快速而簡單的概述非常有幫助：足跡分析。借助足跡和光柵分析工具，VirtualLab提供了一個強大的工具，可在此過程中為光學工程師提供支持。在本文檔中，討論了這個多功能工具的選項和功能。
足跡和光柵分析工具
足跡和光柵分析工具是光導工具箱黃金版的一個特色。
它可以在開始功能區(qū)的光導部分進行初始化。
操作工具的基本流程
步驟1：選擇要分析的設(shè)置。它可以通過布局設(shè)計工具生成，詳見：
光導布局設(shè)計工具
但是請注意，足跡和光柵分析工具并不局限于特定的布局類型。您可以加載文件或直接從已經(jīng)打開的文檔中選擇一個文件。
步驟2：定義該工具應(yīng)該考慮的視場范圍。
步驟3：單擊分析按鈕。關(guān)于分析進度的詳細信息將在按鈕下方的面板中提供。
理想和實際光柵結(jié)果
足跡和光柵分析工具的結(jié)果可以分為兩個方面：
相互作用的足跡數(shù)據(jù)
相互作用的足跡數(shù)據(jù)文檔提供了一個所有光束足跡打到一個給定的光柵區(qū)域的彩色編碼插圖，配置視場(FOV)的不同模式有不同的顏色。用戶可以選擇在圖中顯示的視場模式。
注意
如果 VirtualLab Fusion記錄了部分入射光束，則取決于基本光路中的“通道分辨率精度”設(shè)置。
無論這個區(qū)域的光有多小或如何調(diào)制，該顯示都不會區(qū)分，并且將始終描繪完整的、相同大小的足跡圓。
中央視場的數(shù)據(jù)
傾斜視場模式數(shù)據(jù)
熱圖文檔
足跡原始數(shù)據(jù)文檔
原始數(shù)據(jù)結(jié)果描述了每種視場模式下每個足跡的中心位置。
這一信息可用于確定相互作用的數(shù)量，并可作為在需要創(chuàng)建具有調(diào)制功能的光路時考慮適當支撐點數(shù)量的基礎(chǔ)。后者在用例“光導上的光柵分析和光柵參數(shù)的平滑調(diào)制”中有更詳細的解釋。
文件信息
延伸閱讀
- 光導上的光柵分析和光柵參數(shù)的平滑調(diào)制
- 光導的結(jié)構(gòu)
- 具有光導元件的“HoloLens 1”型布局的建模
- 光導布局設(shè)計工具
- k域布局可視化
- 具有1D-1D光瞳擴展器和真實光柵的光導模擬
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