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通過高NA浸沒顯微鏡進(jìn)行聚焦

時間:2021-05-07 22:40來源:訊技光電作者: 技術(shù)部點擊:次打印

摘要

在浸沒顯微鏡中，我們通常使用蓋玻片將浸沒液體和樣品分開。因此，PSF可能會因蓋玻片在焦平面處的界面而變形，這在設(shè)計過程中通常不能被很好地考慮。在VirtualLab Fusion中，可以直接分析蓋玻片界面對PSF的影響，以完全矢量的方式演示并分析蓋玻片后面的焦點變形。

場景

在VirtualLab Fusion中構(gòu)建系統(tǒng)

系統(tǒng)構(gòu)建塊

組件求解器

系統(tǒng)構(gòu)建塊

總結(jié)

幾何光學(xué)仿真

通過光線追跡

結(jié)果：光線追跡

快速物理光學(xué)仿真

通過場追跡

在蓋玻片的最后一個界面之前聚焦

聚焦在水中蓋玻片的最后一個界面后方

在蓋玻片的最后一個界面之前聚焦

聚焦在水中蓋玻片的最后一個界面后方

總結(jié)

文件信息

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