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通過高NA浸沒顯微鏡進(jìn)行聚焦
時(shí)間:2021-05-07 22:40來源:訊技光電作者: 技術(shù)部點(diǎn)擊:次打印
摘要
 
在浸沒顯微鏡中,我們通常使用蓋玻片將浸沒液體和樣品分開。因此,PSF可能會(huì)因蓋玻片在焦平面處的界面而變形,這在設(shè)計(jì)過程中通常不能被很好地考慮。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析蓋玻片界面對(duì)PSF的影響,以完全矢量的方式演示并分析蓋玻片后面的焦點(diǎn)變形。
 
場(chǎng)景

 
在VirtualLab Fusion中構(gòu)建系統(tǒng)

系統(tǒng)構(gòu)建塊

 
組件求解器
 
 
 
 
系統(tǒng)構(gòu)建塊

 
總結(jié)
 
 
幾何光學(xué)仿真
通過光線追跡
 
結(jié)果:光線追跡

 
快速物理光學(xué)仿真
通過場(chǎng)追跡
 
在蓋玻片的最后一個(gè)界面之前聚焦

 
聚焦在水中蓋玻片的最后一個(gè)界面后方

 
在蓋玻片的最后一個(gè)界面之前聚焦
 
 
聚焦在水中蓋玻片的最后一個(gè)界面后方

 
總結(jié)
 
 
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