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高數(shù)值孔徑(NA)物鏡的聚焦分析

1. 摘要

   

高NA物鏡廣泛用于光刻，顯微等技術(shù)。因此，聚焦仿真中考慮光的矢量性質(zhì)至關(guān)重要。VirtualLab可以非常便捷地對(duì)此類鏡頭進(jìn)行光線追跡和場(chǎng)追跡分析。通過場(chǎng)追跡，可以清楚地觀察由于矢量效應(yīng)引起的聚焦光斑失對(duì)稱現(xiàn)象。利用相機(jī)探測(cè)器和電磁場(chǎng)探測(cè)器能夠?qū)�聚焦區(qū)域進(jìn)行靈活全面的研究，進(jìn)而加深對(duì)矢量效應(yīng)的理解。


 

2. 建模任務(wù)

  

3. 概述

 

4. 光線追跡仿真

 

5. 場(chǎng)追跡仿真

 

6. 場(chǎng)追跡結(jié)果(相機(jī)探測(cè)器)

7. 場(chǎng)追跡結(jié)果(電磁場(chǎng)探測(cè)器)

 利用電磁場(chǎng)探測(cè)器，我們可以獲得多有電磁場(chǎng)分量的結(jié)果

 

 

8. 文件信息

 

更多信息

• Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer
• Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination