摘要
VirtualLab可用于分析任意光柵類型。斜光柵在復(fù)雜光學(xué)系統(tǒng)中已經(jīng)可以實(shí)現(xiàn)，并且其重要性在提高。斜光柵通過特殊光學(xué)介質(zhì)實(shí)現(xiàn)，以此定義其一般性的幾何結(jié)構(gòu)。而且，幾個(gè)高級(jí)規(guī)格選項(xiàng)可用，例如，添加一個(gè)完整和部分涂層。這個(gè)案例解釋了配置的可用選項(xiàng)，并且討論了其對(duì)光柵結(jié)構(gòu)的影響。
介質(zhì)目錄中的斜光柵介質(zhì)
內(nèi)置斜光柵介質(zhì)可以在VirtualLab的嵌入的介質(zhì)目錄中找到。
可用于設(shè)置復(fù)雜光學(xué)光柵結(jié)構(gòu)（所謂的堆棧）和傅里葉模式法（FMM）分析。
斜光柵介質(zhì)的編輯對(duì)話框
斜光柵介質(zhì)為周期性結(jié)構(gòu)自定義提供很多選項(xiàng)。
首先，光柵脊和槽的材料必須在基礎(chǔ)參數(shù)選項(xiàng)中定義。
這些材料既可以從材料目錄選擇，也可以通過折射率定義。
斜光柵介質(zhì)的編輯對(duì)話框
在材料設(shè)置下面，可以定義光柵的幾何結(jié)構(gòu)。
以下參數(shù)可用：
- 填充率（定義光柵的上部分和下部分）
- z擴(kuò)展（沿著z方向測(cè)量光柵高度）
- 傾斜角度左（脊左側(cè)的傾斜角）
- 傾斜角度右（脊右側(cè)的傾斜角）
如果傾斜角相同，通過點(diǎn)擊不等號(hào)關(guān)聯(lián)兩個(gè)設(shè)置。
斜光柵介質(zhì)的編輯對(duì)話框
為了添加可配置的涂層，必須激活應(yīng)用涂層（Apply Coating）選項(xiàng)。
現(xiàn)在，額外的選項(xiàng)和結(jié)構(gòu)的圖形一起顯示。
斜光柵介質(zhì)的編輯對(duì)話框
首先，必須選擇涂層材料。
同樣地，材料可以從材料目錄中選擇，也可以通過折射率定義。
接著，分別配置每個(gè)側(cè)壁，頂壁和底壁的涂層厚度，如草圖所示。
斜光柵的編輯對(duì)話框
由于斜光柵由介質(zhì)定義，必須在周期選項(xiàng)中設(shè)置周期。
由于用這個(gè)特別的介質(zhì)來設(shè)計(jì)光柵，因此常常配置為周期性。
堆棧使用的評(píng)論
為了使用光學(xué)堆棧里的介質(zhì)，有必要定義兩個(gè)作為介質(zhì)邊界的表面。
一般來說，界面之間的距離必須手動(dòng)設(shè)置。
對(duì)于斜光柵介質(zhì)，介質(zhì)高度（z方向）直接定義在介質(zhì)配置中。
因此，表面之間的距離自動(dòng)與斜光柵介質(zhì)z擴(kuò)展同步。
斜光柵介質(zhì)的采樣配置
斜光柵介質(zhì)采樣
接下來的幻燈片展示了一些選中的斜光柵介質(zhì)案例。
在每個(gè)幻燈片的左邊，編輯對(duì)話框展示了相關(guān)參數(shù)。
在右邊，顯示了介質(zhì)的預(yù)覽。
介質(zhì)預(yù)覽可以通過對(duì)話框部分底部的預(yù)覽按鈕獲得。
采樣斜光柵#1
采樣斜光柵#2
采樣斜光柵#3
采樣斜光柵#4
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