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反射光束整形系統(tǒng)(2)
時(shí)間:2016-11-04 21:07來源:訊技光電作者: 技術(shù)部點(diǎn)擊:次打印
如果這個(gè)例子評估20個(gè)參數(shù),那么返回到光路圖(LPD)。
 
 
結(jié)果:使用GFT+進(jìn)行光束整形
 
 
 
現(xiàn)在,利用幾何場追跡+計(jì)算生成的光束剖面。
 
 
由于離軸設(shè)置,光線分布顯示出輕微的不對稱形狀。
 
不過,場分布幾乎是對稱的(最好是使用偽色(false colors))。
 
產(chǎn)生的相位是完全平坦的,產(chǎn)生的波前誤差:

 
file used: BDS.0005_Reflective_BeamShaper_01_RT.lpd
 
結(jié)果:評估光束參數(shù)
 
從生成的整形光束場分布,可以評估光束參數(shù)。
可以直接通過使用探測器界面實(shí)現(xiàn)。
在這個(gè)例子中,我們對光束半徑,發(fā)散角和M²值感興趣。


整形光束在x和y方向上顯示了一個(gè)幾乎相同的半徑。
發(fā)散角大約是4urad。
M²值明顯高于1。(與理想高斯光束相比,高M(jìn)²值是由光束偏離引起的)
 

 
file used: BDS.0005_Reflective_BeamShaper_02_BeamShaping.lpd
 
光束質(zhì)量優(yōu)化
 
通常,使用合適的高斯調(diào)制光闌以用于優(yōu)化M²值。
因此,我們使用測量的半徑作為腰束半徑(消除發(fā)散角)來生成一個(gè)高斯光束。
之后,將接收場轉(zhuǎn)換成一個(gè)透射函數(shù)。
將該傳輸函數(shù)用作光闌(在一個(gè)透射函數(shù)元件中)。
 
結(jié)果:光束質(zhì)量優(yōu)化

由于通過高斯孔徑傳播,光束顯示出理想高斯形狀。
因此,M²值在兩個(gè)方向上幾乎都是1。
 


然而,光束半徑是略有減少。
(光束半徑顯示在最后一張幻燈片是由于其偏離了理想高斯。)
 
file: BDS.0005_Reflective_BeamShaper_03_BeamOptimization.lpd
 
反射鏡方向的蒙特卡洛公差
 
對于公差,在隨機(jī)模式下我們使用參數(shù)運(yùn)行特性。
 
這意味著參數(shù)變化是的正態(tài)
 
 
對于這個(gè)例子,假設(shè)每個(gè)反射鏡都有±0.1°的角度偏差(絕對的方向)。
由于這個(gè)偏差,整形光束的波前差明顯增加。
 
這意味著,波前對對齊誤差很敏感。

 
file used: BDS.0005_Reflective_BeamShaper_04_Tolerancing.run
 
第一個(gè)隨機(jī)公差的典型強(qiáng)度分布:(相應(yīng)的均方根波前差:1.08λ,40.4λ,140λ)


 
由于波前差和因此校準(zhǔn)的偏差更大,M²值明顯增加?梢允褂酶咚箍讖絹頊p少。
 
總結(jié)
 
實(shí)現(xiàn)并分析高性能離軸和無色散反射光束整形裝置。
1.模擬
通過使用光線追跡來驗(yàn)證反射光束整形設(shè)置。
2.研究
為了計(jì)算場分布和評價(jià)光束參數(shù),應(yīng)用幾何場追跡+(GFT+)引擎。
3.優(yōu)化
通過使用顯示出高斯整形孔徑函數(shù)和經(jīng)典場追跡引擎來優(yōu)化M2參數(shù)。
4.分析
通過應(yīng)用蒙特卡羅公差來分析取向偏差的影響。
可以使用VirtualLab Fusion非常有效地模擬和分析復(fù)雜的光束整形裝置,尤其是離軸系統(tǒng)。為此,根據(jù)情況應(yīng)用不同的模擬引擎。
 
參考文獻(xiàn)
[1]M. Serkan, H. Kirkici, and H. Cetinkaya, “Off-axis mirror based optical system design for circularization, collimation, and expansion of elliptical laser beams”, Appl. Optics 46, No. 22, 5489-5499 (2007).
 
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- 介紹光路圖
- 介紹參數(shù)運(yùn)行
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- BDS.0004: Focal Beam Size Reduction by Generating a Bessel Beam using Axicon Pair
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